1、基于
CMOS工艺后端的不挥发薄膜存储器:铁电薄膜存储器(FeRAM),变阻存储器(RRAM),相变存储器(PCRAM),非挥发闪存(FLASH)等;
近年来在Nature Materials、Advanced Materials、Advanced Functional Materials、Physical Review B、Applied Physics Letters等国际刊物发表论文100多篇,获得国内外授权发明专利30多项。在The 7th AMF-AMEC-2010、ISIF-2010、The 10th ICSICT-2010、ISIF-2011、The 8th PFMTW-2010、CIMTEC2012、ISIF-2012、JKC-FE12、KPS-2018、 IMF2017、the ISIF 2019等国际会议中作邀请报告。
国家杰出青年科学基金获得者;上海市高校特聘教授(东方学者)、教育部新世纪优 秀人才、上海市浦江人才等研究计划。
担任EPL副编辑,IEEE 国际电子器件大会(IEDM)存储器分会委员,国际智能材料大会(CIMTEC)存储器分会顾问委员会委员,国际集成功能器件顾问委员会委员 (ISIF 2007-2009)等。