在极紫外光刻进行曝光时，光源中的非13.5nm波长的成分，称为带外辐射。

导致极紫外光刻胶图形分辨率不够和边缘粗糙度较高的一个很重要的原因是曝光时光源中的非13.5nm波长的成分，又称带外（out of band，OOB）辐射。而且OOB辐射还会导致光刻胶的放气量增大，增大光学系统被污染的概率。为此，光刻材料供应商专门设计了一种保护层材料（OOB protection layer，OBPL），它被涂覆在极紫外光刻胶表面，既能吸收OOB辐射又能阻挡光刻胶放气。

带外辐射材料在化学性质上需与极紫外胶兼容，即OOB的材料的溶剂不能溶解极紫外胶，这样在它们的界面处就不会形成混合层。OOB需能够很快地溶解于标准的TMAH显影液中，没有残留。对于曝光图形的半周期是28 nm，有OOB保护的光刻胶图形有更好的线宽粗糙度和陡峭的侧壁，也增大了聚焦深度。