喷嘴用来供应光刻胶和各种有机溶剂，每一个喷嘴对应一种材料，如图所示。在整个光刻工艺中，除了曝光，其余所有的步骤都是在匀胶显影机中完成的。匀胶显影机的主要工艺单元分别有晶圆表面增粘处理，光刻胶旋涂单元，边缘曝光，显影单元等，这些单元的装置都离不开喷嘴。

分类:

晶圆表面增粘处理:

有些晶圆表面是亲水的，这不利于光刻胶的涂覆。在这种情况下，通常首先对晶圆表面做增粘处理，这是在匀胶显影机的增粘单元中进行的。在真空腔中装入晶圆后封闭腔体。晶圆在腔体中加热到一定的温度，同时通过喷嘴将六甲基二硅胺（HMDS）气相引入或直接喷淋在晶圆表面，使其直接由亲水性变成疏水性。

1. 光刻胶旋涂单元：

（1）EBR（edge bead remove）喷嘴是指去边溶剂喷嘴。有机溶剂从去边喷嘴中倾斜向外喷在晶圆的边 缘，同时晶圆以一定的速度旋转，清洗晶圆的边缘。

（2）胶喷嘴：如图2所示，不仅仅局限于光刻胶，也可以用于旋涂抗反射涂层和防水顶盖图层。

（3）背冲洗喷嘴：如图2所示，也用来喷淋溶剂，在离心力的作用下，喷淋的溶剂清洗晶圆背面的边缘区域。

2. 显影单元：显影单元包含一个转台和几个喷嘴，几个喷嘴分别用于喷洒显影液，去离子水以及表面活化剂。显影液的喷淋分为两种方式：静态喷淋盒动态喷淋，显影液喷嘴可以分三类，如图3所示：

（1）扫描式细长喷口

（2）多个喷嘴动态喷淋

（3）单个喷嘴动态喷淋

目前最新的的显影喷嘴设计，一般是把几个不同的喷嘴集成在一个机械臂上。