选择比指的是在同一
刻蚀条件下一种材料与另一种材料相比
刻蚀速率快多少，它定义为被刻蚀材料的刻蚀速率与另一种材料的
刻蚀速率的比。
高选择比意味着只刻除想要刻去的那一层材料。一个高选择比的
刻蚀工艺不刻蚀下面一层材料（刻蚀到恰当的深度时停止）并且保护的光刻胶也未被刻蚀。图形几何尺寸的缩小要求减薄
光刻胶厚度。高选择比在最先进的工艺中为了确保
关键尺寸和剖面控制是必需的。特别是关键尺寸越小，选择比要求越高。
其中，Ef为被刻蚀材料的
刻蚀速率，Er为掩蔽层材料的刻蚀速率（如光刻胶），如图1所示。
根据这个公式，选择比通常表示为一个比值，一个选择比差的工艺这一比值可能是1:1，意味着被刻蚀的材料与光刻胶掩蔽层被去除地一样快，而一个选择比高的工艺这一比值可能是100:1，说明被刻蚀材料的刻蚀速率为不要被刻蚀材料的（如光刻胶）刻蚀速率的100倍。