超净高纯(VLSD) 试剂是大规模集成电路(IC) 及高档半导体器件制造过程的专用化学品，主要用于硅单晶片的清洗、光刻、腐蚀工序中，它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能、可靠性都有着重要的影响。

注意事项

随着IC集成度的不断提高，对超净高纯试剂的质量指标提出了更高要求。国际上半导体工业协会(Semiconductor Industry Association) 新近推出Semi C7 (适合0.8~1.2μm 工艺技术) 和Semi C8 (适合于0.2~0.6μm 工艺技术) 级别试剂质量标准。

中国的超净高纯试剂有低尘高纯级、MOS级、BV-I 级、BV-I级、BV-皿级(相当于Semi C7 质量标准)。超净高纯试剂的质量标准要求如下。

等级 检测项目/项 尘埃颗粒直径/pum 100ml 含量个

低尘高纯 10 ~20 10~ 15 3000~4000

MOS 20~30 5~1 0 2700

BV- I ＞=30 2 300

BV-II ＞=30 2 100