东芝松下DISPLAYTECHNOLOGY开发的输入显示器内建光传感器，形成所谓的板内式（In-Panel）触控面板，它的光传感器使用Pin二极管，TFT-LCD面板内设有可以将二极管输出电流增幅的电路，光传感器会感测手指触压面板时，触压部位的外光减少变化，以及手指产生的反射光两种光线的变化。

飞利浦则将阻抗式触控单元设置在Cell内部，形成所谓的TFT-LCD触控面板，具体结构是

在Cell内部设置厚度比Cell更薄的导电材料，接着利用覆膜的球状隔离片（Spacer）与平

版印刷技术，在对向基板使ITO膜层堆栈凸出形成板内式触控面板，类似这样的触控面板

板内化技术未来如果商品化，可能会对触控面板业者造成巨大冲击。

a.阻抗式四线触控面板

上下各二个电极构成的阻抗式四线触控面板的基本结构，第一次使用阻抗式四线触控

面板时，必需依序在画面四个角落触压进行初期位置偏差修正设定。

b.阻抗式八线触控面板

八线触控面板的基本结构，它是由一条平行电极连接两条导线，其中一条是施加电压

用主电极，另一条则是检测施加于平行电极电压的辅助电极，它可以自动修正偏差位置，减少烦琐的初期位置修正动作。

c.高穿透率触控面板

一般阻抗式触控面板的光线穿透率大约80%左右，主要原因是传统阻抗式触控面板，使用

光线穿透率90%的ITO/玻璃基板当作下方电极，上方电极则使用光线穿透率80%的ITO

/树脂膜片，因此触控面板整体的光线穿透率只有80%。

最近研究人员利用抗反射（AR；AntiReflection）技术，开发光线穿透率高达98%触控面板

用材料，它可以使传统触控面板80%的光线穿透率提高至87%。

一般ITO/玻璃基板与穿透率ITO/玻璃基板的基本结构比较；高穿透率触控面板的基本结构。

c.低反射触控面板

一般阻抗式触控面板的光线反射率大约是10～20%左右，反射光造成面板对比降低，尤其

在强烈阳光下会变成致命性的伤害。

如果一般阻抗式触控面板的表面黏贴1/4λ膜片，与偏光膜片构成的圆偏光膜片，通过该膜

片的反射光会被圆偏光膜片吸收，进而有效消除触控面板的反射光。

是内侧式（Inner）触控面板的基本结构；照片1是传统阻抗式触控面板与内侧式触控

面板的比较。

根据实验结果显示内侧式触控面板的对比，大约是传统阻抗式触控面板2倍左右。

g.抗EMI触控面板

某些应用要求液晶面板具备抗EMI特性，因此必须彻底遮蔽液晶面板产生的电磁波，理论

上表面电气阻抗越低电磁波遮蔽效果越高，通常使用表面阻抗□左右的导电性膜片（Film）。

为发挥EMI遮蔽效果，必需使带电与带磁负荷逃离导电面，EMI导电面设有电极线（汇流线：BusBar）。

h.抗燃型触控面板

某些特殊用途的触控面板要求抗燃烧特性，抗燃型触控面板的基本结构。

为满足抗燃烧设计规格，上方电极部材料必需同时兼具强韧、平坦与优秀光学特性的树脂薄

膜，然而实际上并没有这样的材料，一般是在聚酯（Polyester）膜片表面黏贴具备自我灭火性的聚碳酸酯纤维膜片。

i.窄边幅触控面板

类似行动电话等携带型电子机器，大多使用以下窄边幅触控面板，一般认为，未来触控面

板边幅大约只剩左右。

上方电极是由厚度的聚酯（Polyester）膜片溅镀ITO膜层构成，ITO的弯曲特性与陶瓷一

样非常脆弱，左右的曲率或是弯曲，就会断线丧失导电功能，常用改善对策是反复堆栈

ITO形成厚膜层；此外，两膜片之间的黏合层具有缓冲效果。

上方电极膜片的拉伸与电气特性，图中的拉伸率是根据折射率计算获得的换算值。

以往业者普遍认为17吋是阻抗式触控面板的物理极限，不过透过电极材料、设计技巧、制

程改善，目前24吋阻抗式触控面板已经进入商品化阶段。