碳化硅器件高温活化炉是由德国Centrotherm thermal solutions生产的高温炉。
简介
Activator 150用于SiC或GaN器件注入后退火，独特工艺炉管和加热系统设计允许工艺温度可达1950 ℃. Centrotherm最新研发SiC工艺炉管用以满足新兴的150毫米SiC衬底工艺。
Activator 150-5 是为研发工作而定制的；Activator 150-50 专为大批量生产而设计,为了缩短生产周期Activator 150-50采用机械手自动传片系统。
Activator 150通过碳化硅升华生长石墨层，可以获得高性能器件，该工艺在圆片区域石墨的生成尺寸达到直径150毫米。
性能优势
· 最大温度可达 1950 ℃
· 占地少 [1.8 m2]
· 升温速率可达 100 K/min
· 真空度小于10-3 mbar [可选]
· 可并排安装石墨烯生长
典型应用
· [3C, 4H, 6H器件，传感器]
· GaN 退火· 大面积石墨烯形成
· SiC 表面制备[例如碳化]