曝光宽容是指光学
曝光系统可以形成符合设计版图要求的曝光能量范围。通常使用曝光结果检测的
关键尺寸（CD）值的变化量在+/-10%范围内的曝光能量选择范围来定义。即如果抗蚀剂在偏离最佳的曝光剂量的情况下，曝光图形的线宽变化比较小的，说明该抗蚀剂有较大的曝光宽容度。通常曝光宽容度越大，显影宽容度也越大。
微笑曲线是指反应抗蚀剂中曝光显影后的关键尺寸（CD）的宽度随不同的
曝光量和
散焦量之间的变化关系曲线图，也称之为
泊松曲线（Bossung Curve）。曲线族的横坐标为散焦量变化值（中心为0散焦，左右为散焦量的±值）；纵坐标为曝光剂量变化的百分数（中心是基准曝光剂量值变化量为0%，上下为曝光剂量的±变化值%，即相对于
基准曝光剂量的变化值%）。
在CD变化值为0时，为基准曲线，它基本上是基准曝光剂量值附近的一条两端翘起的比较平直的曲线；在CD值的变化量为+10%时，该曲线在基准曲线的上方，曲线的形状如笑脸上嘴唇边缘，中间高，两边随散焦量变化逐渐降低，当散焦量大到一定程度时随基准曲线的两端翘起，逐渐接近基准曲线；在CD值的变化量为-10%时，该曲线在基准曲线的下方，曲线的形状如笑脸下嘴唇边缘，中间低，两边随散焦量变化逐渐成弧形上升，当散焦量大到一定程度时随基准曲线的两端翘起，逐渐接近基准曲线。如果光刻工艺规定CD+/-10%的变化为工艺的允许范围，则上下两条微笑曲线“笑脸唇线”所包围的区域为曝光宽容度区域。
曝光容忍度是光学系统对于剂量变化的一种表征方式，和投影
图像对比度紧密联系。
投影图像的特征尺寸若具有较差的图像对比度，将会对剂量变化过于敏感。因此，增加光刻胶的
折射率可以导致曝光容忍度的增加。如果光刻胶在偏离最佳曝光剂量的情况下，曝光图形的线宽变化较小，则说明此
光刻胶具有较大的曝光容忍度，曝光容忍度大的胶受曝光能量浮动或
不均匀的影响较小。