尹志尧，男，美国国籍。1944年出生于北京，1968年毕业于
中国科学技术大学化学物理系1980年，前往
加利福尼亚大学洛杉矶分校留学，并获得
物理化学博士学位。担任
中微半导体设备（上海）有限公司创始人、董事长、总经理、代理董事会秘书。
1956年，尹志尧考入
北京市第四中学，在校期间一直做共青团少先队的工作，1962年毕业。
1984年，在
硅谷Intel公司、LAM研究所、
应用材料公司等电浆
蚀刻供职16年。尹志尧曾发起硅谷中国工程师协会并担任主席。
在硅谷打拼期间，尹志尧积累了86项美国专利和200多项国际专利。回国创业之后，尹志尧带领30多人的团队从零开始，仅仅用了3年时间就开发出了原创设计的双反应台介质刻蚀除胶一体机。这是中国生产出的第一台高端刻蚀设备，效率更比同类产品高出30%以上。