孙清清，博士、讲师。2009年6月毕业于复旦大学，获博士学位。2004年9月- 2009年6月：硕博连读，
微电子学与固体电子学；
复旦大学微电子学系；2000年9月-2004年7月:本科，物理学；
复旦大学物理学系；07年-08年之间,
德国汉诺威大学电子材料与器件学院访问学者。最近3年来，在Applied Physics Letters等国际期刊和会议上发表论文20余篇，其中Applied Physics Letters杂志上以第1作者发表6篇。
集成电路工艺和半导体器件。1. 纳米CMOS器件先进栅介质；2.
超大规模集成电路低介电常数介质和先进铜互连技术；3.原子层化学气相淀积（ALD）；4.基于纳米线和纳米管的晶体管；5.第一性原理计算在微电子学中的应用。