多层布线技术是制作多层布线陶瓷基板和封装管壳工艺技术。有两种基本方法:一种是在薄片状的陶瓷生坯上印刷耐热导体,然后在压力下多层叠加。另一种是在陶瓷生坯上交替印刷导体层和隔离介质层。两者都经高温烧结而成独石结构的复合陶瓷陶瓷内导体构成立体配线,形成回路,导体有铝-锰系,锢-金系,钯系, 铝系,钨系等。采用此法制成的器件具有重量轻、体积小、可靠性好、效能高等优点。
多层布线技术是
大规模集成电路中较关键的技术。因为集成电路的高密度化增大了金属布线在管芯小片内所占的比例,以致达到小片容纳不了的程度。多层布线化的提出构成了集成电路发展的一个新阶段,可以说多层布线化目前巳成为集成电路商密度化的关键。尤其是大规模集成电路中的多层布线对于大规模集成电路的成品率和降低成本是一个重要因素。
通过不同的薄膜、厚膜工艺、可在基片中三维立体布置引线、电阻、电容等电子元件及其它功能器件。低温烧结多层布线
陶瓷基片中的导线分内部布线和外部布线两类。对内部布线的要求是性能要稳定,电阻率要低,和基片之间的反应要小,而且层与层之间的配位要精确;对外部布线的要求是具有良好的抗蠕变特性和良好的附着强度。低温烧成多层布线陶瓷基片中的电阻元件分为后烧成电阻、同时烧成外层电阻以及同时烧成内层电阻等几类。由于烧结过程中电阻材料与基片材料的相互作用及基片的烧结收缩等,往往会引起电阻值的增加及电阻温度系数的变化等。这些要通过合理选择基片成分、烧结条件、烧结程序、控制基片收缩,及时处理基片晶化过程中产生的残留气体,选择高软化点玻璃材料等加以解决。
集成电路芯片上各元件制造完成后,需用金属导线按电路功能把它们连接起来,这就是集成电路的内部布线,通常叫做互连。在设计互连时,要求互连线尽可能短,互连线的电阻值尽可能小,互连线彼此不能相交,而且要避免通过薄的氧化层。
以上几点要求,在中、
小规模集成电路中比较容易做到。可是,在大规模集成电路中,金属布线比较复杂,要在同一平面上避免互连线的交叉是十分困难的。为此,必须采用多层布线技术。
薄膜多层布线技术,通常是采用多层金属薄膜作布线导体,以低损耗的无机或有机介质膜作绝缘交叉层,经多次光刻形成图形。用Cr/Au/Cu导体膜和
聚酰亚胺介质膜构成的薄膜多层布线,可达三层,现正研究将它应用于计算机集成电路片组件中。
在厚膜多层布线技术中,采用高Q可结晶的玻璃介质浆料作交叉绝缘层,可做五层或五层以上的导体电路图形。这种多层布线基片,当电路改变时,只要改换丝网掩模即能生产,工艺成本较低,电路板的价格也较便宜,在数量较少,而电路品种又较多的场合,使用是适宜的。