外来杂质就是非区域内部的杂质。

就是非区域内部的杂质。

用于屏蔽从基片上的第一区域凸出的器件免受等离子体影响、同时用等离子体从基片上的不同区域去除外来杂质的设备和方法。所述设备包括至少一个凹陷，其被定位并定好尺寸以接收器件，以便器件被屏蔽而免受等离子体的影响。所述设备进一步包括窗口，通过所述窗口，等离子体去除外来杂质。所述方法通常包括去除外来杂质，同时屏蔽器件免受暴露于等离子体的影响。