图像反转（image inversion）是一种使用正胶和暗场掩模版做出岛区的工艺。

在曝光小尺寸图形时，倾向于使用正胶。正胶适于使用暗场掩模版做孔洞。暗场掩模版大部分被铬覆盖，因为铬不会像玻璃一样易损，所以缺陷比抛光较少。然而，一些掩模版用来曝光岛区。而不是孔洞，比如金属层掩模版上是岛区图形。

在曝光结束后，光刻胶里的图像与想要得到的图像是相反的，也就是说，如果抛光接着显影的话，会得到孔洞而不是岛区。

图像反转工艺的主要步骤为将涂胶的晶圆放置在有氨蒸气的真空烘箱中。氨蒸气穿透光刻胶，抛光改变其极性。将晶圆从真空烘中取出，再进行泛光曝光，从而完成了整个图像反转工艺。氨气烘焙和泛光曝光的效果是改变曝光区域和非曝光区域的相对分解率，在接下来的显影步便可以实现。这一工艺可以实现与非图像翻转工艺同样的分辨率。