半导体釉是一种用于高压电磁而具有特殊性能的釉，其表面电阻率介于绝缘体与导体之间。该釉通常是在普通电瓷釉中加入一定量（约30%）的导电性金属氧化物或化合物构成。形成的显微结构与普通釉不同，在半导体釉中除了含有大量的玻璃相及少量气泡外，还含有各种形态的导电结晶或固溶体，这些导电相贯穿于玻璃基质之间，构成不间断的导电网络。

半导体釉有铁钛型、钛型、锑锡型、钼型等类型，常用的为铁钛型和锑钛型。

半导体釉是一种半导体晶相高度分散，形成了半导体晶相构筑的载流子（电子和空穴）运动通道的釉玻璃。

从显微结构看，半导体釉已不再是单纯的玻璃物质了，可视为由半导体晶粒和绝缘的基质玻璃组成的一种特殊的微晶玻璃。半导体釉的显微结构特征对它的半导电性能至关重要。最为重要的结构特征是半导体晶相的高度分散性，即晶相尺寸应尽可能地小；其次，半导体相在釉中应当占到一定的体积分数，才能有效地建立起载流子顺利通过的通道，有的称为导电网络。

对锡石型半导体釉的显微结构和导电机制的研究指出，以电瓷釉为基础釉，加入18%～24%预先合成的锡锑蓝色固溶体，经烧成后可获得稳定的半导体釉。Sn0。本身就是一种半导体氧化物，但锡石在釉中的反应活性很低，难以熔入釉熔体中，在锡石中加入氧化锑形成锡锑固溶体的目的就是提高反应活性，烧成时部分固溶体可以熔入玻璃熔体，冷却时则以极微细的尺寸(仅o．Oltim)的锡石晶体形式析出，这样就使锡石晶粒之间薄薄的、原本绝缘的基质玻璃也具有让载流子通过的能力，即较容易地形成了载流子的通道。

对铁一钛型半导体釉的显微结构的研究也明确地指出，釉中观察到晶型完整的、彼引相连的晶粒构成了连续的导电网络，这些晶粗均为含Fe2、Ti4+的晶体，或它们的固溶体。氧化铁型半导体釉必须在还原气氛下烧成，这可能为保证铁离子的二价形态密切相关。