光刻系统
科学仪器
光刻系统是一种用于电子与通信技术领域的工艺试验仪器，于2005年10月1日启用。
技术指标
用于半导体器件的光刻工艺。精度为1微米。是各种高性能半导体光电子和微电子器件制备所必须的工艺设备。
主要功能
光刻。
参考资料
光刻系统.国家科技基础条件平台中心.
最新修订时间：2023-10-14 02:07
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概述
技术指标
主要功能
参考资料

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