在传统磁盘技术发展的上存在一个“超顺磁极限”。传统磁记录驱动器的面记录密度越来越大，当它达到20～40Gb/平方英寸时，磁盘上的磁介质就无法保持稳定的磁畴，这就是传统磁盘技术发展的理论极限。但信息技术发展对信息存储的要求却没有极限。著名硬盘厂商Seagate就大力开发下一代的存储解决方案，名曰光助温盘（OAW）技术。OAW

在传统磁盘技术发展的上存在一个“超顺磁极限”。传统磁记录驱动器的面记录密度越来越大，当它达到20～40Gb/平方英寸时，磁盘上的磁介质就无法保持稳定的磁畴，这就是传统磁盘技术发展的理论极限。但信息技术发展对信息存储的要求却没有极限。著名硬盘厂商Seagate就大力开发下一代的存储解决方案，名曰光助温盘（OAW）技术。OAW技术达到的面记录密度远高于今天的硬盘驱动器，最终将突破超顺磁极限即传统磁技术的面记录密度的理论极限。OAW技术在驱动器业界首次把光技术、磁技术和通信技术集成在一起，构成新一类的经济实惠的高容量驱动器产品。预计在下一个10年之初，OAW技术就能突破超顺磁级所限制的驱动器性能。OAW系统由：先进的光输送系统、独特的磁头设计、全新的伺服系统、等新一代记录介质子系统组成。总而言之，OAW技术是一种可靠实用的技术，可望成为下世纪提高磁盘记录密度的新手段。

独特的磁头设计

独特的磁头设计集成了先进的磁头技术和微透镜。微透镜把光纤送来的光脉冲聚集到磁盘介质表面上。这些透镜的直径小于350微米，比以前的透镜小几倍。它们不仅能够使激光精细地聚集于磁盘介质表面上，而且在磁头飞行高度发生变化时能够进行宽范围的自适应调节。

伺服系统

制动器的端部安装了微机械(MEMS)的反射镜，其面积比针尖还小，制动臂上的光纤经物镜发出的光脉冲由这些反射镜反射后投射到磁盘介质表面上。在电流的作用下，反射镜会发生偏转，从而改变激光在磁盘介质表面上的投射位置。因此，在制动臂不动的情况下可以非常精细地进行调节，使激光点从一个磁迹移到另一个磁迹。采用这样的伺服系统之后，磁迹密度可达到10万条磁迹/英寸。

新一代记录介质

OAW系统中的介质结构类似于传统温盘介质，但基片可以使用塑料。塑料比传统温盘驱动器使用的铝基轻，又便宜。此外，由于采用塑料基片，OAW介质可以预先进行格式化，使之含有伺服图形。OAW所用的磁层结构是由非液态稀土过渡金属组成。这些金属的理论记录密度远高于常规的温盘磁记录介质。由于这种介质的磁层是非晶态结构，而不是常规介质的晶体结构，又由于OAW技术采用纵向记录方式而不是横向记录方式，所以这种介质不存在常规温盘磁记录介质的超顺磁极限。