MOS级化学试剂是“金属-氧化物-半导体”(Metal-oxide-semiconductor)电路专用的特纯试剂的简称，是为适应
大规模集成电路(LSI)的生产而出现的一个新的试剂门类。
MOS级化学试剂是“金属-氧化物-半导体”(Metal-oxide-semiconductor)电路专用的特纯试剂的简称，是为适应
大规模集成电路(LSI)的生产而出现的一个新的试剂门类。
它属于生产金属
氧化物半导体电路专用的化学品，是一种
高纯试剂。其纯度要求单项金属离子杂质含 量均在10-7%~10-9%范围内。而更重要的是控制产品内微粒杂质（即尘埃和不溶颗粒）的个数，应当符合
美国材料试验学会（ASTM）“0”级标准，即对5~10微米大小的颗粒，每100毫升中最大允许在2700个以下，而对5微米大小的颗粒，要求在304个以下。